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SK하이닉스, 도시바와 'NIL 기술 공동 개발' 본계약…2017년 실용화



SK하이닉스(대표 박성욱)는 일본 도시바와 나노 임프린트 리소그래피(Nano Imprint Lithography, 이하 'NIL') 기술에 대한 공동 개발 본계약을 체결했다고 5일 밝혔다.

앞서 양사는 지난해 12월 같은 건에 대한 MOU를 체결한 바 있다. 이번 본 계약 체결을 통해 실제 개발에 착수하게 된다.

NIL 기술은 메모리 공정이 더욱 미세화되고 있는 가운데 미세 패턴을 구현하는데 있어 적합한 차세대 리소그래피 공정기술이다.

막대한 투자가 선행돼야 하는 기존 공정기술과 비교해 경제적인 양산이 가능하다는 장점이 있다.

양사는 오는 4월부터 일본 요코하마에 위치한 도시바의 팹에서 NIL 기술에 대한 공동 개발을 진행할 예정이다. 실제 제품에 적용되는 시기는 2017년으로 전망된다.

이번 협력을 통해 양사는 공정 미세화의 한계에 대응하기 위한 새로운 기술을 확보할 수 있게 돼 메모리 반도체 선두 업체로의 입지를 더욱 강화할 수 있을 것으로 기대하고 있다.

한편 SK하이닉스는 D램 시장에서 글로벌 점유율 2위를 달리고 있고, 도시바는 낸드플래시 부문에서 시장 점유율 2위를 유지하고 있다.
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