SK하이닉스가 중국 우시 생산라인을 더 늘렸다.

SK하이닉스는 18일 중국 우시에서 C2F 준공식을 개최했다고 밝혔다.

C2F는 기존 D램 생산 라인인 C2를 확장해 만들었다. 공간 부족 문제 해결을 위해 9500억원을 투입해 2017년 착공했다.

C2F는 건축면적 5만8000㎡ 단층 팹이다. C2 공장과 비슷한 규모로 조성됐다. 이미 일부에 클린룸 공사를 마무리하고 장비를 입고해 D램 생산을 시작했으며, 시황에 따라 추가 가동 시기를 결정할 예정이다.

앞서 SK하이닉스는 2004년 중국 장쑤성 우시시와 현지 공장 설립 계약을 체결, 2006년 C2생산라인을 완공해 D램을 생산해왔다. SK하이닉스에서는 처음 300mm 팹으로 성장에 큰 역할을 해왔다.

준공식 행사는 '새로운 도약, 새로운 미래'라는 주제로 열렸다. SK하이닉스 이석희 대표 등 회사 관계자와 우시시 리샤오민 서기 등 현지 관계자들 500여명이 참석해 축하했다.

SK하이닉스 우시FAB담당 강영수 전무는 "C2F 준공을 통해 우시 팹의 중장기 경쟁력을 확보하게 됐다"며 "C2F는 기존 C2 공장과 '원 팹(One FAB)'으로 운영 함으로써 우시 팹의 생산·운영 효율을 극대화할 것"이라고 말했다.