인텔이 주력 기지를 업그레이드하며 명예 회복을 향한 의지를 다졌다.

인텔은 11일(현지시간) 미국 오리건주 'D1X' 공장 확장 행사를 열었다.

이 공장은 인텔의 주력 생산 기지로, 30억달러(한화 약 3조7000억원)를 투자해 '모드3'를 가동할 계획이다.

모드3는 약 2만5000㎡ 규모 무균실을 추가 확보해 차세대 실리콘 공정 기술을 개발하며 'IDM 2.0'을 실현하기 위해 기획됐다. 기본 제조 기술을 개발해 빠르게 제조에 적용한다는 계획이다.

특히 인텔은 이날 게이트올어라운드(GAA)와 파워비아 기술과 함께, 2025년 '하이NA EUV' 공정을 적용한 1.8나노 수준 공정 도입을 다시 한 번 확인하며 '무어의 법칙'을 이어가겠다는 방침을 확인했다.

아울러 인텔은 론러 에이커스 캠퍼스를 '고든 무어 파크'로 개명하며 '무어의 법칙'을 만든 고든 무어 전 CEO를 기념하기도 했다.

팻 겔싱어 인텔 CEO는 "인텔은 창립 이래 무어의 법칙을 끊임없이 발전시키는 데 주력해왔다"며 "오리건주는 인텔 글로벌 반도체 연구개발의 심장이다. 반도체 산업 발전의 핵심적인 역할을 한 고든 무어의 유산을 기념하는 가장 좋은 방법은 오리건 캠퍼스에 그의 이름을 부여하는 것"이라고 말했다.

한편 인텔은 지난 50여년간 오리건주 생산 기지에 520억달러 이상을 투자해왔다고 소개했다. 10만5000개 이상 일자리와 100억달러 이상 급여, 190억달러 상당 미국 총생산에 기여했다며, 현재 2만2000여명이 근무하고 있다고 밝혔다.