이창양 산업통상자원부(산업부) 장관이 5일 기술 해외 유출 범죄에 대한 처벌 강화와 감경 요소 제한 등 제도 개선이 필요하다는 양향자 무소속 의원의 질의에 "처벌 수준을 높이는 쪽으로 검토하겠다"고 답했다.

이 장관은 이날 오전 서울 여의도 국회에서 열린 산업통산자원벤처중소기업위원회 전체회의에 출석해 "대한민국도 처벌 수준이 (경쟁국과 비교해) 그렇게 낮지 않으나 양형 기준이 낮고 경감이 많이 돼서 그런 듯하다"며 이같이 밝혔다.

양향자 의원은 이창양 장관에게 "최근에 국가 핵심 기술 유출이 매우 심각한 상황이다. 국정원이 2018년 1월부터 2022년 12월까지 적발한 산업 기술 해외 유출 사건이 93건"이라며 "유출로 인한 직간접적 경제적 피해액은 25조원에 이른다"고 설명했다.

그러면서 "사례로 보면 삼성전자 반도체 관련 업무를 담당하던 A씨가 인텔로 이직하기 위해 최신 반도체 초미세공정 관련 국가핵심기술 및 영업비밀 등 33개 파일을 유출하다가 적발됐다"며 "최근에 삼성전자에서 18년 근무 후 SK하이닉스 부사장을 지낸 B씨는 국내 반도체 업계 종사자 200명을 영입해서 기술 유출을 지시하고 국내 반도체 기술이 적용된 생산 공정을 만들어서 삼성전자에 3000억원의 피해를 입혔다"고 덧붙였다.

양 의원은 "이런 기술 유출 범죄에 대한 처벌이 우리나라는 경쟁국에서 비해서 상당히 낮은 편"이라며 "2017년부터 2021년까지 산업기술보호법 위반으로 처리된 제1심 유죄 판결 중 실형을 받은 사람은 6.2% 밖에 안 된다. 무죄는 34.6%, 집행유예는 39.5%다. 총 74.5%가 솜방망이 처벌을 받고 있다"고 지적했다.

이어 "주요 경쟁국의 경우는 벌금형도 상당히 높게 설정한다. 한국은 15억원 이하인 것과 달리 미국은 벌금이 법인에 최대 130억원 혹은 도용 이익의 3배 중 큰 금액, 개인의 경우 65억원이다. 일본은 단체에 100억원, 개인에 30억원이다. 대만은 최대 43억원을 병과한다"고 덧붙였다.

양 의원은 "영업비밀, 산업기술, 국가핵심기술, 국가첨단전략기술로 세분화하고 있으나 (기술 유출에 대한) 양형기준은 영업비밀로 일괄적용된다"며 "여기에다 더한 것은 재판부의 기술 이해도 부족이다. 수사 및 재판과정에서 피해자인 기업이 소외돼서 기술 가치 등 재판부를 설득할 기회가 전무하다"고 강조했다.

또한 "기술 침해 전문 법원이 없고 지적 재산권 전담 재판부도 2년마다 순환 근무를 해서 전문성이 낮다"며 "기술 유출은 화이트 칼라 범죄 특성 상 판결문에서 주로 인용되는 감경 요소를 통해 악용할 가능성이 크고 범행 동기, 피해 규모 등이 빈곤형 절도와 다르기 때문에 감경 요소도 제한해야 한다"고 말했다.

이창양 장관은 "기술유출 문제 방지 대책이 필요하다는 것에 전적으로 동의한다"며 "세계적으로 첨단기술 경쟁이 심화되고 앞으로 이런 추세가 지속될 것으로 보인다. 지난 6월달에 대법원 양형위원회가 개최돼 양형기준을 높이는 쪽으로 검토한다고 했다. 내년 초에 수정될 것으로 기대한다"고 말했다.

이어 "그 외 사각지대 문제, 기술 종류별로 다른 처벌기준, 감경요소 제한 등도 검토하겠다"고 덧붙였다.